Pelat kuarsa leburan 99,99% dengan kemurnian tinggi untuk penggunaan semikonduktor, memiliki titik leleh 1732℃ dan suhu kerja 1100℃. Menawarkan pelubangan, pemotongan, dan sampel gratis khusus. Tahan lama, transmisi tinggi, dan dikerjakan secara presisi sesuai gambar Anda untuk efisiensi optimal.
Obor kaca kuarsa SiO₂ 99,99% kemurnian tinggi dengan suhu kerja 1100°C, transmisi cahaya >92%, dan kekerasan Mohs 6,5. Menawarkan stabilitas termal yang sangat baik, ketahanan asam, dan isolasi listrik. Ukuran khusus tersedia dari produsen yang dapat diandalkan dengan MOQ rendah dan pengiriman cepat.
Pelat silika leburan dengan kemurnian tinggi (SiO2>99,99%) dengan transmisi cahaya >92%, kekerasan Morse 6,5, dan ketahanan 1150℃. Ideal untuk jendela optik dan semikonduktor. Ukuran khusus, standar JGS1/2/3, dan MOQ rendah tersedia.
Pelat silika leburan dengan kemurnian tinggi dengan transmisi UV >92%, SiO2>99,99%, dan kekerasan Morse 6,5. Tahan 1150 ℃ dan tahan korosi. Ukuran khusus, standar JGS1/2/3, dan opsi bentuk tersedia untuk jendela laser dan peralatan optik.
Tabung kaca kuarsa susu SiO₂ 99,99% dengan kemurnian tinggi dengan suhu kerja 1100℃ dan diameter 10-10000mm yang dapat disesuaikan. Ideal untuk aplikasi fotovoltaik, semikonduktor, dan laboratorium. Menampilkan ketahanan terhadap korosi, sampel gratis, dan layanan pemotongan/pelubangan yang presisi.
Tabung kaca kuarsa bening 99,99% SiO₂ dengan kemurnian tinggi dengan suhu kerja 1100℃ dan titik leleh 1732℃. Ideal untuk tungku semikonduktor dan reaktor laboratorium. Menampilkan pelubangan/pemotongan khusus, sampel gratis, dan MOQ rendah untuk pembeli B2B.
High-purity (99.99% SiO₂) fused silica quartz glass plates engineered for semiconductor photomask and wafer manufacturing. These high-temperature-resistant, corrosion-resistant rectangular and square sheets are available in JGS1, JGS2, and JGS3 grades, with custom frosted plate options manufactured ...
SiO2 dengan kemurnian tinggi>99,99% lembaran kaca kuarsa dengan transmisi cahaya 93%, kekerasan Mohs 6,5, dan suhu kerja 1200°C. Ideal untuk reaktor fotokatalisis dan instrumen optik. Ukuran khusus, pemolesan, dan sampel tersedia dengan MOQ rendah.
Tinggalkan pesan.
Kami akan segera menghubungi Anda kembali!
Pesan Anda harus antara 20-3.000 karakter!
Silakan periksa Email Anda!
Kirim
Lebih banyak informasi memfasilitasi komunikasi yang lebih baik.
Tn
Tn
Nyonya
OKE
Berhasil dikirimkan!
Kami akan segera menghubungi Anda kembali!
OKE
Tinggalkan pesan.
Kami akan segera menghubungi Anda kembali!
Pesan Anda harus antara 20-3.000 karakter!
Silakan periksa Email Anda!
Kirim
Silakan tinggalkan email Anda yang benar dan persyaratan terperinci (20-3.000 karakter).