Wafer kuarsa presisi tinggi untuk semikonduktor, optik, dan laboratorium-Mia

Sebagai produk inti dari kaca kuarsa kemurnian tinggi, wafer kuarsa, dengan koefisien ekspansi termal yang sangat rendah, transmisi sinar ultraviolet yang sangat baik dan ketahanan korosi kimia yang kuat,adalah bahan presisi dasar yang sangat diperlukan dalam litografi semikonduktor, deteksi optik, analisis spektral laboratorium, dan bidang peralatan laser.industri pengolahan kuarsa domestik telah terus-menerus diulang polishing, proses chamfering, dan pelapisan, dan produk wafer kuarsa presisi tinggi telah mempercepat masuknya ke pasar ekspor global.Peng domestikasi dan ekspansi luar negeri dari bahan kuarsa telah dipercepat secara bersamaan.

Wafer kuarsa terbuat dari kuarsa cair (SiO2) dengan kemurnian tinggi dan diproses melalui beberapa prosedur yang tepat seperti pemotongan, penggilingan, polesan, dan pembersihan.Produk dapat disesuaikan sesuai dengan kebutuhan pelanggan untuk ketebalan, toleransi, dan permukaan datar, dan diklasifikasikan ke dalam kategori seperti wafer kuarsa ultraviolet JGS1 dan wafer kuarsa inframerah JGS2, dll.Mereka mendukung pengolahan sekunder seperti lapisan anti-refleksi AR dan chamfering, dan banyak digunakan dalam skenario seperti jendela pengamatan peralatan semikonduktor, basis warna spektrometer, lensa perlindungan laser, dan penutup ruang reaksi fotokatalitik.Tidak seperti kaca biasa, wafer kuarsa kemurnian tinggi dapat menahan suhu hingga 1100°C, tidak mudah terkikis dalam lingkungan asam dan alkali yang kuat,memiliki kinerja transmisi cahaya pita ultraviolet yang luar biasa, dan merupakan substrat yang disukai untuk penelitian ilmiah dan aplikasi industri kelas atas.

Permintaan global untuk peralatan optik terkait dengan daya komputasi semikonduktor dan AI terus meningkat, mendorong pertumbuhan yang stabil dalam permintaan untuk wafer kuarsa presisi tinggi.